Mipox 수탁 개발 · 가공 서비스



 Mipox 수탁 개발 .가공서비스

기판의  가공 엣지/표면 Mipox 맡겨주세요.

MIPOX 고성능 자사 연마 제품 , 연마 장치 · 높은 가공 기술력을 바탕으로 각종 워크의 엣지에서 표면까지 고객의 목적에 맞는 형상면 표면조도의 목표을 위한 위탁 개발 · 가공을 수주 받습니다. 
φ8mm ~ φ450mm까지 엣지 폴리싱 가공 가능합니다.

 

 특징

  • 우리의 풍부한 연마 기술과 노하우를 자사 제품과 함께 적용
  • 소량 시작 ~ 양산 대응, 소모품 · 연마 장치 프로세스 기술 제공 등 고객의 요구에 대응
  • 전문의 프로세스 기술 개발 담당하여 개발에서 대응 가능
  • 평가 설비도 충실 가공 전후의 품질 확인 및 평가 지원
  • 티타늄이나 SiC 등 난 삭재의 경면 가공에도 대응 가능
  • 연마 가공 후 스크럽 세척 가능

   수탁가공대상제품 

소재가공 대상가공 내용해당 크기
  • 각종 반도체 용 기판 
    (Si, SiC, GaN, GaAs, 사파이어, LiTaO3, LiNbO3, SiN, AlN, SiN, 각종 복합 재료, etc)
  • 태양 전지용 기판
  • 각종 금속 기판 
    (Cu, Al, SUS, Ti, Au, Ag, W, etc ..)
  • 각종 유리 기판 
    (석영, 파이렉스 유리, 강화 유리, 소다 유리, etc ..)
  • 각종 수지 기판
  • 에지 (베벨 노치 오리엔테이션 플랫)
  • 베베린구

 

  • 트리밍
  • 광택

Φ2 인치 ~ 300mm

  • 앞 뒷면
  • 광택

~ Φ4 인치 ~ □ 300mm

  • 각종 원통형 재료 (Al, SUS 각종 합금, 고무, 수지 소재, DLC 막, Cr 막, etc ..)
  • 표면
  • 광택
지름 ~ 150mm, 길이 ~ 450mm
  • 각종 후프 재료 (롤 to 롤)
  • 표면
  • 광택
별도 상담
  • 각종 워크의 측정 · 분석 · 해석
  • 표면 에지
  • 측정
별도 상담

   수탁 가공 예




 각종 반도체 기판 사이즈 다운 가공



각종 반도체 기판의 크기 다운 가공 (인치 다운)을 1 장부터 접수합니다. 오리엔테이션 플랫 노치의 사양 등 자세한 내용은 문의하시기 바랍니다. 

기판 재질 : 실리콘, 유리, SiC 등 
대응 가능 구경 : Φ4 인치 ~ Φ12 인치 
가공 후 크기 : Φ2 인치 ~ Φ8 인치 

※ 사이즈 다운 후 모서리 면취 가공 에지 폴리싱 있습니다. 치핑을 제거하고 표면 거칠기를 개선함으로써, BG 등의 후 공정에서의 수율을 향상시킵니다.


 

 Mipox grinding film test for SiC (Chamfer Creation)